陶瓷靶材是比較脆的靶材,通常陶瓷靶材都會(huì )綁定背板一起使用.背板除了在濺射過(guò)程中可支撐陶瓷靶材,還可以在濺射過(guò)程中起到熱傳遞的作用.陶瓷靶材的種類(lèi)很多,應用范圍廣泛,主要用于微電子領(lǐng)域,顯示器用,存儲等領(lǐng)域.陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料,已得到空前的發(fā)展.

陶瓷靶材的種類(lèi)及各自應用

按應用來(lái)分,可分為半導體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等.

半導體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材(HfO,SiO,Si3N4,MoSi,TaSi,WSi,TiSi,PLZT,ITO,主要應用于柵極電介質(zhì)膜.飩化膜,擴散阻擋膜,電容器絕緣膜,透明導電膜;

顯示陶瓷靶材 ZnS—Mn,ZnS-Tb,ZnS-Sm,CaS-Eu,SrS-Ce,Si3N4,MgO ,主要應用于電致發(fā)光薄膜發(fā)光層,電致發(fā)光薄膜絕緣層, 磁盤(pán)等;

磁記錄陶瓷靶材 Si3N4 ,主要應用于磁頭,磁光盤(pán)(MO)保護;

光記錄陶瓷耙材 Si3N4, 主要應用于光盤(pán)保護膜;

超導陶瓷靶材 YbaCuO, BiSrCaCuO ,主要應用于超導薄膜;

巨磁電阻陶瓷靶材, 主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池窗;

其它應用靶材 In?O?，LiNbO?， BaTiO?, PZT. ZnO ，主要應用于太陽(yáng)能電池，壓電薄膜

按化學(xué)組成,可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等.其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內已廣泛生產(chǎn)應用.高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景.

例：氧化物陶瓷濺射靶是高級陶瓷濺射靶中較常見(jiàn)的靶。氧化物陶瓷可以通過(guò)在高溫下燒結而制成，其中一種或多種氧化物為主要主要成分，而其他次要氧化物為添加劑。它們分為簡(jiǎn)單氧化物陶瓷和復雜氧化物陶瓷。這種類(lèi)型的常見(jiàn)濺射靶材包括氧化鋁（Al2O3），氧化鎂 （MgO），氧化鈹（BeO），氧化鋯 （ZrO2）等。大多數氧化物陶瓷具有高熔點(diǎn)，出色的絕緣性，耐熱強度，抗氧化劑和腐蝕性能。因此，它們可以長(cháng)時(shí)間暴露在高溫和氧化環(huán)境中，值得在工程領(lǐng)域中廣泛應用。