東莞市鼎偉靶材有限公司是專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)高純金屬材料，蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術(shù)企業(yè)應用開(kāi)發(fā)的科技型民營(yíng)股份制工貿有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸發(fā)材料專(zhuān)業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中高級專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員和專(zhuān)業(yè)化應用實(shí)驗室，具有很強的蒸發(fā)材料開(kāi)發(fā)能力。公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽(yáng)能企業(yè)當中，以較高的性?xún)r(jià)比，成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶(hù)**。
泉州舊黃金靶材回收
東莞市鼎偉靶材有限公司
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公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥
高純金：金靶、金粒、金絲、金電極、金片、金粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5NT(不是聯(lián)系方式)
規格：金靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶(hù)要求定做）  金粒（規格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規格定做）
 金絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規格定做）
 金片（根據客戶(hù)要求定做）
 金粉（根據客戶(hù)要求定做）

靶材的主要性能要求:
純度
純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著(zhù)微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線(xiàn)寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿(mǎn)足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線(xiàn)條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
【原創(chuàng  )內容】
我們發(fā)現有需要維修的地方會(huì )書(shū)面通知客戶(hù)并提供維修報價(jià)三、包裝和運輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材
大部分背靶可以重復使用，尤其是采用金屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他帖合劑（包括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機械處理的方式對背靶表面處理后才 第二步與第一步類(lèi)似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過(guò)后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無(wú)絨布”進(jìn)行路進(jìn)行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現象。五、靶材預濺射靶材預濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作導致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散發(fā)較終會(huì )造成靶材開(kāi)裂或脫靶為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的路進(jìn)行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現象。五、靶材預濺射靶材預濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作我們發(fā)現有需要維修的地方會(huì )書(shū)面通知客戶(hù)并提供維修報價(jià)三、包裝和運輸所有已貼合靶材包裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外包裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護靶材平整度，同時(shí)確保O型密封圈始終在位置上。四、短路及密封性檢查靶材完成安裝后需要對整個(gè)陰極進(jìn)行短路檢查及密封性檢查，建議通過(guò)使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短