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什么是貴金屬靶材

時(shí)間：2022-09-10瀏覽數：574

     貴金屬靶材就是采用精練、粉末冶金、壓延加工或熔化鍛造制造而成的貴金屬靶材材料。是主要應用于半導體器件、存儲用的硬盤(pán)、平面顯示器等的布線(xiàn)和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。廣泛應用于集成電路和大規模集成電路。還有一些合金靶材用于磁記錄。

     在貴金屬靶材中其貴金屬的純度都在99.99%以上主要應用在半導體行業(yè)與大規模的集成電路中，是電子信息產(chǎn)業(yè)中不可或缺的重要材料之一。比如金靶材應用于磁控濺射鍍膜，SEM金靶材用于掃描電鏡SEM設備。貴金屬靶材就形態(tài)品種而言根據行業(yè)應用的不同有顆粒狀、絲狀、塊狀、片狀等形狀尺寸大小不一，根據行業(yè)需求都是可以定做的。
      為什么貴金屬靶材對純度要求這么高呢？主要是因為在半導體產(chǎn)業(yè)中，小小的芯片要處理的東西越來(lái)越多了，隨著(zhù)工藝的發(fā)展對其純度要求也越來(lái)越高了。因為靶材的結晶粒子直徑和均勻性被認為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。

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