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東莞市鼎偉新材料有限公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)：鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等；公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽(yáng)能企業(yè)當中，以較高的性?xún)r(jià)比，成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶(hù)好評。

高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制

時(shí)間：2021-04-16瀏覽數：799

高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制：如果靶中的夾雜物數量過(guò)多，則在濺射過(guò)程中可能在晶片上形成顆粒，從而導致互連線(xiàn)短路或斷開(kāi)，這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過(guò)程中形成的，主要由氧化物組成，但也包括氮化物，碳化物，氫化物，硫化物，硅化物等，因此應在冶煉和鑄造過(guò)程中使用。坩堝，內部 流道，鑄模等由還原性材料制成，在澆鑄之前，應將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常，它們在真空或無(wú)氧環(huán)境中熔融并澆鑄。鉻靶批發(fā)、鉻靶價(jià)格在市場(chǎng)也是不一樣的。


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